В комплексе будет собрано самое современное оборудование для производства микросхем в мире, он будет построен на территории Albany NanoTech Complex – это университетский комплекс для исследований и разработок. Строительство нового здания для производства микросхем займет, предположительно, около двух лет.
Координировать строительство нового объекта будет некоммерческая организация NY Creates, которая сейчас уже курирует работу комплекса Albany NanoTech Complex. Проект позволит создать 700 рабочих мест. Общий объем инвестиций в него составит около $10 млрд. Частные инвестиции составят минимум $9 млрд, а штат Нью-Йорк инвестирует $1 млрд. На эти средства будет приобретено оборудование для производства микросхем у нидерландской компании ASML Holding. Она обладает самым мощным на сегодняшний день литографическим оборудованием, работающем в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне – EUV. А в комплексе в Университете в Олбани будут установлены литографические сканеры нового поколения – High NA EUV. В коммерческое производство такие сканеры, скорее всего, не поступят до 2025 года.
Как только оборудование будет установлено на объекте, начнется работа над производством чипов нового поколения, сообщили в офисе губернатора Нью-Йорка Кэти Хочул. В число инвесторов-партнеров проекта входят технологический гигант IBM, корпорация Micron Technology и производители оборудования для создания чипов Applied Materials и Tokyo Electron. Новый комплекс может помочь Нью-Йорку получить статус исследовательского хаба в соответствии с принятым в прошлом году законом «О чипах» о предоставлении субсидий в размере $53 млрд для стимулирования производства и разработок полупроводников в США.
